掩膜板的定义:一般用在芯片制造上，也称光罩，曝光过程中的原始图形的载体，通过曝光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。光刻产品的遮挡，防止光的衍射.
掩膜板的产品特点：按客户图低制作，产品厚度0.10mm，(图中所有孔精度要求小于±5μm，所有孔的位置精度为小于±10μm）。
我国主要需求量主要在北京、上海、长三角、珠三角等发达地区。
光罩（英文：Reticle，Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。
Reticle也称为Mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝i光过程中的原始图形的载体，通过曝i光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版，一般是根据客户的要求做的，客户提供图纸我们加工
光罩的制作过程
1.制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，连云港制版，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。
2. 沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的曝光。
3. 沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（Mask Writer）之下。
4. 写入。由光罩写入机完成，制版厂家，使用电子束曝光光刻胶，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。
5. 烘烤。烘烤曝光的光刻胶，制版哪家好，要求在光罩上的每个点都温度均匀。
6. 显影。使用显影剂使光刻胶的图像显影，制版价格，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。
7. 蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。
8. 剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。
9. 测量。测量关键尺寸（CD）和图案精度，以确保它们符合客户规格。
10. 检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到Inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。
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